光解廢氣凈化除臭設備 UV廢氣除臭設備 uv光催化氧化設備 磁感UV除臭設備 UV廢氣除臭凈化器 UV光解催化除臭設備 活性炭吸附凈化除臭設備 UV光解除臭設備
光催化除臭設備中有機廢氣的處理
光催化技術(shù)的原理:
1.用***殊的高能紫外-紫外光照射惡臭氣體,使惡臭氣體如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、揮發(fā)性有機化合物、苯和甲苯的分子鍵斷裂。
2.利用高能紫外光分解空氣中的氧分子,產(chǎn)生游離氧(即活性氧)。由于自由氧攜帶的正負電子不平衡,需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧,使處于自由狀態(tài)的污染物分子被氧化并與臭氧結(jié)合形成低分子無害或低危害的化合物,如CO2和H2O。uv+O2-活性氧(o+O2-臭氧)。
3.利用專用催化劑進行氧化還原反應,利用高能紫外光、臭氧和催化劑協(xié)同進行惡臭氣體的分解氧化反應,使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子無害或低危害的化合物、水和二氧化碳,徹底達到除臭和殺滅有害細菌的目的。
光催化性能的***點:
1.創(chuàng)新產(chǎn)品:***際同步先進的光催化技術(shù),能徹底分解惡臭和異味氣體中的有害有毒物質(zhì),達到完美的除臭和除異味效果。分解后的惡臭氣體可完全無害排放,無二次污染。
2.高效除臭:能高效快速去除揮發(fā)性有機物(VOC)和各種惡臭氣味,除臭效率可達99%以上。
3.運行成本低,資源消耗小:設備本身無動力,無壓力,無噪音,無需維護,無需添加任何輔助化學品,不會造成二次污染。
4.適用范圍廣:可適用于高濃度、***風量環(huán)境,工作環(huán)境溫度為-30℃-95℃,濕度為30%-98%,PH值為3-13時,可連續(xù)穩(wěn)定運行。
5.光催化設備占地面積小,自重輕:處理1萬立方米/小時風量的設備占地面積小于。
光催化的應用***域;
光催化(除臭)有機廢氣凈化設備適用于日常工作和生活中產(chǎn)生惡臭和異味氣體的所有場所。
如:肉類加工廠、制藥廠、電子廠、造紙廠、印染廠、皮革廠、飼料廠、污水廠、垃圾廠、香料廠、香精廠、噴涂廠、汽車噴漆室、橡膠廠、石化廠。